Первый российский фотолитограф создан в Зеленограде — он годится для выпуска чипов 350 нм
✹ Разработку с 2022 года ведёт Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) по заказу министерства промышленности. К концу года она должна завершиться созданием опытного образца. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года «Чипы размером 350 нанометров хоть и считаются большеразмерными, но до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях» , — комментирует ТАСС уровень первого фотолитографа. ✹ Разработка фотолитографов — один из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования. ✹ Фотолитограф (степпер) для изготовления микросхем 350 нм — это установка весом в 3.5 тонны и габаритами 2х2.6х2.5 метров (оптико-механическое устройство, объектив лазера с рабочей длиной волны 365 нм) плюс управляющий комплекс. Внутри проходят процессы фотолитографии: индивидуальная обработка кремниевых пластин (диаметром 150 и 200 мм) с автоматической загрузкой и выгрузкой их из кассет. «В рамках проекта по разработке фотолитографа на 350нм мы берём готовый лазер — полупроводниковый, отечественный. Возможно, и зеленоградские компании, специализирующиеся на лазерных технологиях, в будущем смогут принять участие в поставках такого оборудования», — рассказывал «Зеленоград.ру» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев. ✹ Сегодня подобное оборудование в мире выпускают всего три компании: голландская ASML, занимающий 84% рынка, и две японские компании — Nikon и Canon (их установка на фото). «Стоимость отечественных фотолитографов, по нашим предварительным оценкам, должна быть ниже зарубежных, — прогнозировал Анатолий Ковалёв. — Но не только это важно. Сегодня импорт нового фотолитографического оборудования в Россию находится под серьёзными ограничениями, и в любом случае стране нужно решать задачу по разработке своих степперов, так как фотолитография — это основа любого технологического процесса в микроэлектронике». ✹ Что касается фотолитографа на 130-65 нм, для него планируется разработать с нуля полностью отечественный лазер с длиной волны 193 нм и получить опытный образец степпера к концу 2026 года.
Зеленоград.ру
Первый российский фотолитограф создан в Зеленограде — он годится для выпуска чипов 350 нм
✹ Разработку с 2022 года ведёт Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) по заказу министерства промышленности. К концу года она должна завершиться созданием опытного образца. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года
«Чипы размером 350 нанометров хоть и считаются большеразмерными, но до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях» , — комментирует ТАСС уровень первого фотолитографа.
✹ Разработка фотолитографов — один из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования.
✹ Фотолитограф (степпер) для изготовления микросхем 350 нм — это установка весом в 3.5 тонны и габаритами 2х2.6х2.5 метров (оптико-механическое устройство, объектив лазера с рабочей длиной волны 365 нм) плюс управляющий комплекс. Внутри проходят процессы фотолитографии: индивидуальная обработка кремниевых пластин (диаметром 150 и 200 мм) с автоматической загрузкой и выгрузкой их из кассет.
«В рамках проекта по разработке фотолитографа на 350нм мы берём готовый лазер — полупроводниковый, отечественный. Возможно, и зеленоградские компании, специализирующиеся на лазерных технологиях, в будущем смогут принять участие в поставках такого оборудования», — рассказывал «Зеленоград.ру» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.
✹ Сегодня подобное оборудование в мире выпускают всего три компании: голландская ASML, занимающий 84% рынка, и две японские компании — Nikon и Canon (их установка на фото).
«Стоимость отечественных фотолитографов, по нашим предварительным оценкам, должна быть ниже зарубежных, — прогнозировал Анатолий Ковалёв. — Но не только это важно. Сегодня импорт нового фотолитографического оборудования в Россию находится под серьёзными ограничениями, и в любом случае стране нужно решать задачу по разработке своих степперов, так как фотолитография — это основа любого технологического процесса в микроэлектронике».
✹ Что касается фотолитографа на 130-65 нм, для него планируется разработать с нуля полностью отечественный лазер с длиной волны 193 нм и получить опытный образец степпера к концу 2026 года.